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圖書簡介

本書內(nèi)容分為六部分：第一部分為半導體物理的基本理論。主要內(nèi)容包括：半導體、晶格、能帶、載流子等基本概念；硅及砷化鎵物理學特性；P—N結(jié)及其特性。第二部分為半導體器件。主要內(nèi)容包括：雙極型器件；MOS器件；微波與光電子器件。第三部分為半導體工藝。主要內(nèi)容包括晶體生長、薄膜生長、光刻、腐蝕、擴散、注入等基本半導體工藝；雙極型集成電路工藝；MOS集成電路工藝。第四部分為集成電路設計。主要內(nèi)容包括：設計方法；綜合與仿真。第五部分為MEMS。主要內(nèi)容包括：MEMS概念與特點；MEMS工藝、器件與材料等。第六部分為科技文獻范例。主要介紹微電子技術的現(xiàn)狀與未來發(fā)展。 書中內(nèi)容選材精良，但考慮到篇幅的限制及上下文的連慣性，對所選內(nèi)容的圖表及文字進行了部分刪減和改動。為了有利于教學和閱讀理解，幫助學生更好地理解原文，每章后面給出了主要專業(yè)詞匯及難句注釋，并在每部分后面列出了有關參考文獻。
目錄
本書由半導體物理、半導體器件、半導體與集成電路工藝、集成電路設計、微電子機械系統(tǒng)和科技文獻范例六部分組成。全書涵蓋了微電子技術領域的基本內(nèi)容，同時又介紹了該領域的一些較新的發(fā)展。
本書可作為電子科學與技術專業(yè)微電子技術方向的三、四年級本科生的專業(yè)英語教材，也可供相關專業(yè)的本科生和從事該專業(yè)領域的工程技術人員使用。

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